مزایای روش CVD:
1-فیلم ها یا همان روکش های تشکیل شده با روش CVD منسجم می باشند بدین معنی
که ضخامت لایه در تمامی نقاط قابل مقایسه و یکنواخت می باشد.
2-توانایی رسوب گستره ی وسیعی از مواد
3-رسوبدهی مواد قابل رسوب با درجه خلوص بسیار بالا
4-سرعت رسوب دهی مواد نسبتا بالاست
5-نیاز نداشتن به شکست خلا برای رسوب لایه های مختلف
6-این روش توانایی
کنترل ساختار کریستال مورفولوژی سطح استیوکیومتری و جهت دهی رسوب را دارد.
معایب روشCVD:
این روش ایمنی کمی دارد و پیش ماده ها گاه آلاینده یا انفجار پذیر هستند.
2-هیدرات ها و کربونیل ها سمی هستند (برای تولید ترکیبات فرار)
3-مواد آلی فلزی در تماس با هوا آتشگیر هستند,
4-تولید لایه هایی با خلوص بالا نیازمند هزینه بالایی است.